PicoMaster ATE-100 無掩模激光直寫光刻機(jī)

●250納米分辨率（375納米激光源）

●300納米分辨率（405納米激光源）

●4095灰階

●業(yè)界成套全息設(shè)計軟件

●最大125x125毫米基板尺寸

PicoMaster 100 采用波長405納米二極管激光器，它擁有市場上最小的300納米激光分辨率。升級375納米激光源，可以更好地兼容市面上I-line光刻膠材，從而滿足更高級別的應(yīng)用需求。備用光學(xué)模塊，將大大的降低機(jī)器停機(jī)時間。更為人性化的軟件設(shè)計，大大提升了用戶實際操作效率，它將是您科學(xué)研究、實驗開發(fā)、設(shè)計創(chuàng)新，理想的光學(xué)伙伴。PicoMaster 100廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體光刻, LED芯片,微流控芯片,微納結(jié)構(gòu),灰度光刻,三維加工,全息影像等多個領(lǐng)域。

PicoMaster 100  無掩模激光直寫系統(tǒng)性能規(guī)格

?PicoMaster 100 曝光光 時間表中只列出部分代 表性直寫精度，不代表 所有尺寸；

? PicoMaster 100 曝光時 間表中的運動參數(shù)均為 標(biāo)準(zhǔn)設(shè)置；

? PicoMaster 100 可配備 自動數(shù)值孔徑開關(guān)，允 許用戶選擇較低的分辨 率，提高寫入速度。

PicoMaster 附帶兩個基于Windows的應(yīng)用程序：項目管理器和設(shè)備控制器。 • 當(dāng)設(shè)備控制器處理作業(yè)并控制機(jī)器時，項目管理器允許用戶選擇功能并處理圖像； • 項目管理器具有獨立動態(tài)處理圖像的特點，這將作業(yè)前的準(zhǔn)備時間減少； • 設(shè)備控制器允許操作員對項目作業(yè)進(jìn)行排隊、項目進(jìn)度監(jiān)控，并提供高級手動控制功能。

• PicoMaster 設(shè)備控制器的特點：

•即時處理作業(yè)。

• 作業(yè)隊列。

• 可自由定義的工藝和曝光配方。

• 擴(kuò)展歷史數(shù)據(jù)庫。

• 支持遠(yuǎn)程操作。