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蘇州芯矽電子科技有限公司


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半導體晶圓清洗設備_芯矽科技

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參   考   價: 10000

訂  貨  量: ≥1 臺

具體成交價以合同協議為準

產品型號

品       牌其他品牌

廠商性質生產商

所  在  地蘇州市

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更新時間:2025-05-26 15:56:11瀏覽次數:30次

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經營模式:生產廠家

商鋪產品:38條

所在地區:江蘇蘇州市

聯系人:芯矽電子 (客服)

產品簡介
槽數 其他 超聲清洗頻率 定制
工作方式 定制 功率 定制
加工定制 類型 其他
清洗溫度 定制℃ 適用領域 電子行業
外形尺寸 定制cm 用途 工業用

半導體晶圓清洗設備是芯片制造中用于去除晶圓表面污染物(如顆粒、有機物、金屬離子及氧化物)的關鍵工藝設備,通過濕法化學、兆聲波、等離子體等技術實現亞微米級潔凈度。其核心功能包括單片清洗(避免交叉污染)、化學配方精準控制(如RCA SC-1/SC-2)、兆聲波空化效應剝離微小顆粒及超臨界CO?干燥(防止表面張力損傷),確保晶圓表面顆粒<0.1μm、金屬污染<0.1ppb。

詳細介紹

一、核心概念與作用

半導體晶圓清洗設備是半導體制造中用于去除晶圓表面污染物(如顆粒、有機物、金屬離子、氧化物)的關鍵工藝設備,確保晶圓表面達到原子級潔凈度。其核心目標包括:

去除顆粒:避免光刻缺陷(如掩膜污染)或蝕刻不均。

清除有機物:防止光刻膠殘留影響薄膜附著力或電性能。

去金屬化:避免銅、鈉等金屬雜質導致器件漏電或氧化層擊穿。

表面鈍化:通過化學氧化或氫氟酸處理,為后續制程(如CVD/PVD)提供穩定表面。

二、技術分類與核心工藝

濕法清洗

化學配方:基于RCA標準(如SC-1:NH?OH/H?O?去有機物;SC-2:HCl/H?O?去金屬;DHF:稀釋HF去氧化層),通過噴淋、浸泡或超聲波輔助溶解污染物。

兆聲波清洗:MHz級高頻聲波產生空化效應,剝離微小顆粒(<0.1μm),避免機械接觸損傷。

超臨界CO?干燥:替代傳統IPA干燥,避免表面張力導致裂紋或顆粒殘留,適用于3D結構(如TSV)。

干法清洗

等離子體清洗:O?/Ar等離子體轟擊表面,去除光刻膠殘留及有機污染物,適用于窄縫、深孔結構。

紫外光清洗:UV輻照分解有機物,配合臭氧(O?)增強氧化能力,用于光罩(Mask)清潔。

物理聯合工藝

刷洗+噴淋:軟質刷毛(如PVA)配合化學液去除頑固顆粒,用于邊緣或背面清洗。

流體力學設計:通過湍流控制或旋轉噴淋臂實現晶圓表面均勻覆蓋,減少液膜殘留。

三、關鍵模塊與性能指標

核心功能模塊

預處理:DIW(去離子水)預沖洗+兆聲波粗洗,去除大顆粒(>1μm)。

主清洗:多槽聯動(化學槽/等離子體腔/超聲槽),支持多步工藝組合(如去膠→去金屬→鈍化)。

后處理:超臨界CO?干燥+真空熱風,控制表面應力<5MPa,防止圖案變形。

性能指標

潔凈度:顆粒殘留<5顆/cm2(≥0.1μm),金屬污染<0.01ppb(Fe/Cu/Ni)。

均勻性:±1%腐蝕速率偏差(如300mm晶圓邊緣與中心一致)。

產能:單次清洗周期<20分鐘(視工藝復雜度),支持24小時連續運行。

智能化控制

實時監測:激光顆粒計數器(≥0.1μm靈敏度)、pH/溫度傳感器、RFID晶圓識別。

AI參數優化:機器學習分析污染類型(金屬/顆粒/有機物),動態調整清洗時間、溫度及化學濃度。

四、應用場景與行業價值

核心場景

光刻前后清潔:去除光刻膠殘留(如EUV光罩清洗)、提升光刻膠附著力。

蝕刻后處理:清除蝕刻副產物(如聚合物、金屬再沉積)。

CVD/PVD前預處理:確保薄膜沉積的均勻性與附著力。

技術挑戰與解決方案

深孔結構清洗:兆聲波+等離子體聯合工藝解決3D NAND溝道污染物問題。

低應力工藝:超臨界干燥技術避免TSV(硅通孔)結構形變(<0.1μm翹曲)。

環保合規:封閉式廢液回收系統(中和+重金屬沉淀)滿足REACH/RoHS標準。


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