詳細摘要： 半導體芯片清洗機是半導體制造中用于去除晶圓表面污染物（如顆粒、氧化物、金屬殘留）的關鍵設備，通過物理或化學方法確保芯片表面潔凈度，直接影響良率與性能。其核心功能...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-05-27 在線留言污水處理設備 污泥處理設備 水處理過濾器 軟化水設備/除鹽設備 純凈水設備 消毒設備|加藥設備 供水/儲水/集水/排水/輔助 水處理膜 過濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設備
蘇州芯矽電子科技有限公司
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詳細摘要： 半導體芯片清洗機是半導體制造中用于去除晶圓表面污染物（如顆粒、氧化物、金屬殘留）的關鍵設備，通過物理或化學方法確保芯片表面潔凈度，直接影響良率與性能。其核心功能...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-05-27 在線留言
詳細摘要： 去蠟濕法清洗機是半導體制造中用于高效去除晶圓表面蠟狀污染物（如光刻膠、助劑殘留）的關鍵設備，通過化學濕法與物理輔助技術結合實現(xiàn)精密清潔。其核心采用有機溶劑或酸堿...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-05-27 在線留言
詳細摘要： 半導體清洗機是半導體制造中用于去除晶圓表面污染物（如顆粒、氧化物、金屬殘留）的關鍵設備，通過物理或化學方法確保芯片表面潔凈度，直接影響良率與性能。其核心功能包括...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-05-27 在線留言
詳細摘要： 濕法EKC清洗機是半導體制造中用于高效去除晶圓表面污染物的關鍵設備，其核心通過化學濕法工藝結合機械作用實現(xiàn)精準清潔。設備采用多槽式設計，依次完成酸洗（如HF溶液...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-05-27 在線留言
詳細摘要： BOE腐蝕機是半導體制造中用于精準去除晶圓表面氧化層（如SiO?、SiN?）的關鍵設備，基于緩沖氧化物刻蝕液（HF與NH?F混合溶液）的化學濕法工藝，實現(xiàn)各向同...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-05-27 在線留言
詳細摘要： 水平式爐管清洗機專為半導體、光伏等行業(yè)設計，通過高壓噴淋、化學腐蝕與超聲波協(xié)同作用，高效清除爐管內(nèi)壁的氧化物、顆粒及金屬殘留。其核心優(yōu)勢在于水平布局，便于長管件...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-05-26 在線留言
詳細摘要： 半導體超聲波清洗機是一種專為高精度清洗設計的設備，利用高頻超聲波空化效應清除晶圓、掩膜版及精密工具表面的亞微米級顆粒、有機物和金屬污染物。其核心優(yōu)勢包括無損清洗...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-05-26 在線留言
詳細摘要： 蘇州半導體清洗設備以技術、自動化程度高和定制化服務為特點，在行業(yè)內(nèi)占據(jù)重要地位。其核心產(chǎn)品包括單片清洗機、槽式清洗設備及石英清洗機等，廣泛應用于半導體、光伏等領...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-05-26 在線留言
詳細摘要： 半導體晶圓清洗設備是芯片制造中用于去除晶圓表面污染物（如顆粒、有機物、金屬離子及氧化物）的關鍵工藝設備，通過濕法化學、兆聲波、等離子體等技術實現(xiàn)亞微米級潔凈度。...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-05-26 在線留言
詳細摘要： 半導體清洗設備是芯片制造中的關鍵工藝設備，通過化學或物理方法去除晶圓表面的污染物（如光刻膠、顆粒、金屬殘留及氧化物）。其核心技術包括濕法清洗（如SC-1、SC-...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-05-26 在線留言
詳細摘要： RCA清洗機是半導體制造中用于晶圓表面潔凈處理的核心設備，基于標準RCA工藝（SC-1硫酸/雙氧水去有機物、SC-2氫氟酸去氧化層），通過化學濕法結合兆聲波或噴...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-05-20 在線留言
詳細摘要： 酸腐蝕清洗機是一種用于金屬、半導體及精密部件表面處理的濕法化學設備，通過酸性溶液（如硫酸、鹽酸、硝酸或混酸）去除氧化層、銹蝕、焊后殘留及微觀污染物。其核心優(yōu)勢包...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-05-20 在線留言
詳細摘要： 晶圓清洗設備是半導體制造中的關鍵工藝設備，用于去除晶圓表面的顆粒、有機物、金屬污染及氧化層等污染物，確保后續(xù)制程的良率與可靠性。其技術涵蓋濕法化學清洗（如硫酸/...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-05-20 在線留言
詳細摘要： 去膠清洗機是半導體、光電等領域關鍵設備，用于去除光刻膠、聚合物等殘留物。其技術涵蓋化學濕法清洗（如硫酸/雙氧水配方）、超聲波空化剝離及等離子干法去膠，可針對晶圓...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-05-20 在線留言
詳細摘要： 片盒清洗機是半導體制造中用于清潔晶圓承載盒（如FOUP）的專用設備，旨在去除片盒表面的顆粒、有機物及工藝殘留物，確保晶圓傳輸過程中的潔凈度。其核心功能包括自動化...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-05-20 在線留言
詳細摘要： BOE濕法清洗機是半導體制造中用于晶圓表面氧化層刻蝕與清潔的關鍵設備，通過化學濕法工藝實現(xiàn)高效潔凈處理。廣泛應用于光刻、刻蝕后清洗及TSV三維封裝前處理，適配硅...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-05-19 在線留言
詳細摘要： 半導體爐管清洗機是用于去除石英/陶瓷爐管表面化學殘留、顆粒及氧化層的專用設備，核心目標為恢復爐管潔凈度以保證擴散、氧化等工藝的穩(wěn)定性。其采用高純度去離子水（DI...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-05-19 在線留言
詳細摘要： 芯片清洗機是半導體制造中用于去除晶圓表面顆粒、有機物及化學殘留的關鍵設備，確保納米級潔凈度（Class 10級）。采用高純度去離子水（DI水，電阻率≥18.2M...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-05-19 在線留言
詳細摘要： 最終清洗機是半導體制程中確保晶圓/爐管表面納米級潔凈的關鍵設備，專為去除化學殘留、顆粒及有機物設計。采用高純度去離子水配合兆聲波震蕩，實現(xiàn)無損傷清洗；集成離心干...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-05-19 在線留言
詳細摘要： 槽式清洗機是一種用于批量清洗物品的自動化設備，廣泛應用于半導體、電子、光學等領域。它通過將待清洗物品放入盛有特定化學試劑的槽中，利用超聲波在液體中的空化作用產(chǎn)生...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-05-13 在線留言您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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