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當(dāng)前位置:北京中科復(fù)華科技有限公司>>刻蝕設(shè)備>>感應(yīng)耦合等離子刻蝕>> DISC-ICP-601/801/1201/感應(yīng)耦合等離子體刻蝕機(jī)(ICP)

感應(yīng)耦合等離子體刻蝕機(jī)(ICP)

參  考  價:10 - 280 /臺
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 型號

    DISC-ICP-601/801/1201/

  • 品牌

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  • 廠商性質(zhì)

    生產(chǎn)商

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    北京市

更新時間:2025-05-16 16:08:28瀏覽次數(shù):813次

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產(chǎn)地 國產(chǎn)
感應(yīng)耦合等離子體刻蝕系統(tǒng)利用射頻天線,通過感應(yīng)耦合方式在放電腔中產(chǎn)生高密度等離子體,同時刻蝕工作臺引入射頻偏壓,射頻偏壓作用下,等離子體中垂直向下對被刻蝕材料表面進(jìn)行物理轟擊,并與材料表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng),達(dá)到對樣品進(jìn)行刻蝕的目的。

  本系統(tǒng)具有ICP和RIE兩種刻蝕功能,既可以進(jìn)行細(xì)線條(納米)加工,也可以進(jìn)行高深寬比的體加工。可刻蝕的材料主要有SiO2、Si3N4、多晶硅、硅、SiC、GaN、

應(yīng)用方向:科研與教學(xué)

產(chǎn)品優(yōu)勢:耐氯基強(qiáng)腐蝕氣體,帶雙片送取樣室(Load-Lock)

產(chǎn)品配置:

樣片數(shù)量及尺寸:1片Ф6英寸

刻蝕材料:包括并不限于GaN、GaAs、InP、Al、Cr、單晶硅、多晶硅、SiO2、Si3N4、Ti、W、Mo、聚合物等。

刻蝕腔體:高真空系統(tǒng)

Load-Lock:低真空系統(tǒng) 或 高真空系統(tǒng)。雙片裝,樣品自動運(yùn)送。

刻蝕不均勻性:±3%-±6%

刻蝕速率:0.1-4μm/min(視具體材料與工藝)

工作臺:可升降,包含水冷

電源配置:上電射頻,下電偏壓,包含自動匹配

氣路數(shù)量與種類:6路氣路,其中2路耐腐蝕VCR焊接 或 用戶選配

深硅刻蝕系統(tǒng):可選配

He冷背吹系統(tǒng):可選配

終點(diǎn)檢測控制:可選配質(zhì)譜儀

操作模式:全自動+半自動控制




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