　　PHABLE設(shè)備基于Eulitha采用的位移塔爾博特光刻(DTL)技術(shù)，通過低成本的光刻系統(tǒng)提供高分辨率光刻。DTL克服了傳統(tǒng)光刻中衍射的局限性，可曝光出質(zhì)量?jī)?yōu)異的亞微米周期圖案。非接觸式曝光可同時(shí)保護(hù)掩模版和晶圓，無聚焦成像技術(shù)可實(shí)現(xiàn)在非平面基材和厚光刻膠上進(jìn)行均勻曝光。

　　PhableR具備以低成本光刻系統(tǒng)曝光高分辨率周期性結(jié)構(gòu)的能力。它類似于傳統(tǒng)的紫外曝光機(jī)，將涂有光刻膠的晶圓接近掩模版，然后用一束紫外深紫外光照射。由于Eulitha的突破性PHABLE曝光技術(shù)，分辨率不再受到不希望出現(xiàn)的衍射效應(yīng)的限制。如亞微米周期線性光柵和二維圖案等結(jié)構(gòu)(如六方和四方晶格曝光)，均具有高均勻性和保真度。

　　應(yīng)用廣泛，包括:

　　學(xué)術(shù)(R&D)

　　XR (AR / VR /MR)

　　光電子學(xué)

　　光學(xué)元件

　　生物/醫(yī)學(xué)

　　色彩/視覺效果

　　光刻技術(shù)服務(wù)

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高分辨深紫外光刻機(jī)

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