詳細摘要： 全自動BOE蝕刻機是半導體制造中用于去除晶圓氧化層（如SiO?）的關鍵設備，通過氫氟酸（HF）與氟化銨（NH?F）混合液（Buffered Oxide Etch...
產品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-05-12 在線留言污水處理設備 污泥處理設備 水處理過濾器 軟化水設備/除鹽設備 純凈水設備 消毒設備|加藥設備 供水/儲水/集水/排水/輔助 水處理膜 過濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設備
蘇州芯矽電子科技有限公司
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詳細摘要： 全自動BOE蝕刻機是半導體制造中用于去除晶圓氧化層（如SiO?）的關鍵設備，通過氫氟酸（HF）與氟化銨（NH?F）混合液（Buffered Oxide Etch...
產品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-05-12 在線留言
詳細摘要： SPM腐蝕清洗機是半導體制造中去除晶圓表面有機物及金屬污染的核心設備，通過硫酸與雙氧水混合液（SPM）的強氧化性實現高效腐蝕清洗。其關鍵功能包括光刻膠剝離、金屬...
產品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-05-12 在線留言
詳細摘要： 單晶圓濕法清洗機是半導體制造中用于單片晶圓表面清潔的關鍵設備，通過化學溶液（如SC-1、DHF等）結合兆聲波、超聲波等物理技術，高效去除有機物、金屬污染及顆粒殘...
產品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-05-12 在線留言
詳細摘要： 半導體硅片清洗機是芯片制造中的關鍵設備，用于去除晶圓表面污染物（如顆粒、有機物、金屬殘留），確保高精度工藝良率。其核心采用濕法化學清洗（如RCA工藝）結合兆聲波...
產品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-05-12 在線留言
詳細摘要： 單晶圓濕法清洗設備，專為高精度芯片制造設計。它采用濕法工藝，能精準去除晶圓表面雜質與污染物。具備高清洗均勻性，確保晶圓各區域潔凈度一致。自動化程度高，操作便捷，...
產品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-05-12 在線留言
詳細摘要： 晶圓單片清洗機是半導體制造中用于單片晶圓表面污染物（顆粒、有機物、金屬離子等）去除的高精密設備，通過逐片獨立處理避免交叉污染，適用于制程節點。其核心技術包括伯努...
產品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-05-08 在線留言
詳細摘要： Wafer清洗機是半導體制造中用于去除晶圓表面污染物（顆粒、有機物、金屬雜質等）的關鍵設備，通過物理、化學或機械原理實現高潔凈度清洗。其主要技術包括超聲波清洗（...
產品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-05-08 在線留言
詳細摘要： 半導體濕法設備是晶圓制造、封裝及器件加工中的關鍵工藝設備，通過化學腐蝕、電化學處理、超聲波空化、流體沖洗等技術，實現納米級潔凈度與微觀結構調控。其核心在于精準控...
產品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-05-07 在線留言
詳細摘要： 邊拋后清洗機是半導體、光學及精密制造關鍵設備，通過濕/干法去除拋光殘留。核心流程含化學去氧化、兆聲波剝離、超純水沖洗及真空干燥，在Class 10環境下完成。支...
產品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-05-07 在線留言
詳細摘要： SPM全自動超聲清洗機是半導體制造中用于高效清潔精密部件的關鍵設備，通過超聲波空化效應結合化學溶劑（如硫酸、過氧化氫等）去除硅片、光罩、石英件等表面的微粒、金屬...
產品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-05-06 在線留言
詳細摘要： EPI零部件清洗機是半導體制造中用于清潔外延生長設備關鍵部件的專用設備。其通過超聲波、化學或等離子清洗技術，高效去除零部件表面的微粒、金屬污染及殘留物，確保外延...
產品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-05-06 在線留言
詳細摘要： 全自動光罩清洗設備是半導體制造中的關鍵工藝設備，用于高效去除光罩表面污染物。其通過超聲波、化學清洗或等離子體技術，精準清除光刻膠殘留、顆粒及金屬雜質，確保光罩圖...
產品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-05-06 在線留言
詳細摘要： 高溫磷酸刻蝕機是半導體加工關鍵設備。它利用高溫磷酸溶液，對硅片等材料進行精準刻蝕。能精確控制刻蝕速率與深度，去除表面雜質、平整表面，為后續工藝奠定良好基礎。具備...
產品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-05-06 在線留言
詳細摘要： 硅片最終清洗設備是半導體制造關鍵工藝設備，用于去除硅片表面雜質、顆粒及殘留物。它通過化學或物理清洗方式，確保硅片表面潔凈度達標準，以滿足芯片制造的嚴苛要求。設備...
產品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-05-06 在線留言
詳細摘要： 硅酸表面蝕刻機是半導體與微電子制造中用于單晶硅、多晶硅材料表面精密加工的核心設備，通過化學濕法蝕刻技術實現微結構成型。其核心原理基于HF/HNO?混合酸體系（如...
產品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-05-06 在線留言
詳細摘要： 具備高度均勻的蝕刻能力，可精確控制孔的深度、直徑等參數。其蝕刻過程穩定，能保證孔壁的光滑度和垂直度。通過流體力學設計和控制系統，適應不同工藝需求，確保蝕刻效果的...
產品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-03-07 在線留言
詳細摘要： CMP預清洗機是一種用于半導體制造領域的專業設備。在化學機械拋光（CMP）工藝前，它發揮著關鍵作用。其能有效去除半導體硅片、晶圓等表面的污垢、雜質及殘留物，為后...
產品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-03-07 在線留言
詳細摘要： 濕法刻蝕設備是半導體制造關鍵設備，用化學溶液精確刻蝕材料。其通常由不銹鋼、石英或高純度聚丙烯等耐腐蝕材質制成，確保在酸堿環境下穩定運行。設備能精準控制刻蝕速率和...
產品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-03-07 在線留言您感興趣的產品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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